典型超纯水设备清洗用半导体清洗用水主要应用于电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液、显像管和阴极射线管生产配料用纯水、黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水、液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗典型超纯水设备，另有少量用于药液配制，集成电路生产中高纯水清洗典型超纯水设备。

典型超纯水设备工艺流程

预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)传统工艺

超纯水设备

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)新工艺

预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM)新工艺

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)新工艺处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)传统工艺。